晶合集成光刻掩模版成功亮相

近日，晶合集成发布公告称，公司在光刻掩模版研发和生产方面取得重大成果，成功生产出首片半导体光刻掩模版，预计2024年第四季度正式量产。

量产后，公司将提供28nm至150nm制程的光刻掩模版服务，预计年产能达4万片，有望提升公司市场竞争力，促进持续稳定发展。